合肥原装气动执行器标准

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于合肥原装气动执行器标准的问题，于是小编就整理了2个相关介绍合肥原装气动执行器标准的解答，让我们一起看看吧。

SMC气动元件在安徽地区有没有代理商？

Felixxie_TK的说法基本正确，但安徽确有代理，不过很少，很多称自己是代理的大多数都是假的，SMC代理受当地营业所管理，可以联络当地营业所。安徽地区长江以南是南京营业所，长江以北是合肥营业所。

我国能生产光刻机吗？

当然可以。

我国上海微电子装备有限公司是专门研发和生产光刻机设备的科技公司。光核机技术水准在90纳米。

无锡影速半导体科技有限公司，是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队成立的微电子高科技公司，生产亚微米半导体制版光刻设备等，技术水准在200纳米。

合肥芯硕半导体有限公司，这家成立比较早，2006，是承担国家两项02专项任务民营高科技公司，主要生产半导体光刻设备。水准200纳米内。

京先腾科技有限公司，发起人杜成群。杜成群博士先在清华任教，后留学荷兰，在荷兰ASM𠃊公司从事光刻研究，拥有60多项光刻技术专利。2010回国为国内芯片出力。水准在800纳米。

还有许多公司都在研发光刻设备。有共同特点都是起步较晚，要赶上国际水准，还需付出更多努力。需要更多人才投入。

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图片来自网络

我国能生产光刻机。只是在技术水平上与国外最先进的有差距。

不过我们一直没放弃努力，现在已经有望缩小差距了。再坚持一下，黎明前的黑暗就会过去。

光刻机是芯片生产的关键设备之一。

芯片生产，需要用到几个最关键的设备：分别是光刻机、刻蚀机、清洗机、等离子注入机。我们都能生产。刻蚀机已经达到世界最顶尖水平。清洗设备和等离子注入也堪用。现在差的就是高精度的光刻机。

光刻机有什么用呢？下面通俗说一下光刻机在芯片生产中的作用。

下面把芯片生产比喻成木匠雕花，可以方便普通人理解。（二者主要是精度差别，材质差别。木匠雕花精度到毫米即可，芯片要到纳米。木匠用木头雕刻，芯片用硅的晶圆雕刻）

芯片生产：

第一步：设计。芯片设计公司进行设计，最后出图。这就像木匠雕花，先由设计师画图。

第二步：备料。芯片的主料是圆晶，就是硅，当然还要用些辅助材料。木匠买来木料等。

第三步：放样。这时要用到光刻机了。要用光刻机把设计好的图纸画到圆晶上。这里要求精度必须和设计精度匹配。如果这一步做不了，后面就只能干瞪眼了。木匠也要放样，根据图纸，在木料上把要雕刻的图样描画好。。

第四步：施工。这时刻蚀机上场。有等离子刻蚀或者化学刻蚀可选。刻蚀时按图施工。这就好比木匠师傅按画好的图案雕刻，使用凿子，刻刀是一样的。施工中要注意保持环境卫生。

第五步：清洗。其实是和施工混合在一起的，边施工边清洗。这就好比木匠雕刻时用毛刷，或者用嘴巴吹木屑。只是芯片要求的清洗超级严格。

第四、第五步要重复多次，具体情况视加工芯片的复杂情况而定。

第六步：封装。施工完毕后要保持住施工成果，隔绝一切可能的伤害，芯片封装要求也很高，要用到离子注入等设备。木匠这环节简单。施工完毕后，现场都清理干净了，弄点清漆把作品保护好。

如果不能用高精度的光刻机放样，是生产不出来高水平的芯片的。光刻机在制造流程中要使用多次，包括最后的封装环节也要用。

下面说说光刻机的市场状况：

现在高等级的光刻机世界上有美国、荷兰、日本三个国家5个公司能生产。分别是荷兰的ASML、日本的Nikon、日本的cannon、美国的ultratech以及我国的上海微电子（SMEE）。

这五家里面，荷兰的ASML一家独大，完全垄断了高精度光刻机。

目前还在追赶的，只有中国，其他几家都放弃了。因为难度太大。

目前ASML的技术是10nm，马上是7nm。

上海微电子的技术是90nm。

我们能买到的最新设备的技术是中芯国际即将投产的生产线14nm。

下图是上海微电子生产的光刻机

好消息是2017年，长春光机所承担的国家科技重大专项项目“极紫外光刻关键技术研究”顺利通过验收，这标志着国产22-32 nm设备就要出来了。我们离ASML又近了一步。

这里，我们要感谢那些默默无闻风险在科研领域的人，他们是中国自强不息的脊梁。下面照片是验收后科研人员合影留念。为这个突破，花了16年时间。让我们向他们致敬。

光刻机最近比较火是因为中兴被美国封杀事件不得使用高通芯片最终近期高通不得不全线产品使用联发科的产品，由此可见芯片对于手机产业的重大影响。

光刻机是芯片制造的最核心设备之一，可以分为几类：

1，用于生产芯片的光刻机；

2，用于封装的光刻机；

3，用于LED制造领域的投影光刻机。

一、中国光刻机与世界的差距

用于生产芯片的光刻机是我国半导体设备的最大的短板。光刻机域的老大是荷兰的ASML，该公司生产的EUV系列光刻机售价高达1亿美元，并且只有ASML能够生产，可以说asml几乎垄断了光刻机的高端市场。

目前国内光刻机和国外的差距是极为巨大的，但是我们能看到的是，光刻机是我过要重点发展的行业。国家扶植。

由于美国主导《瓦森纳协议》的限制，中国根本不可能进口光刻机的高端设备。只能有机会买到ASML的中低端产品。举例：Intel、三星、台积电2015年能买到ASML10 nm的光刻机。而国内，2015年只能买到ASML 2010年生产的32 nm的光刻机，5年时间对半导体来说，已经足够让市场更新换代3次了。这就导致即使通过设备学习国外的光刻机技术，中国已经落后三代产品，更不用说观看和拆解根本不可能学会光刻机新技术。

由于进出口贸易的限制，国内目前没办法安装ASML EUV光刻机，所以也导致无法学习最先进的光刻机技术。目前国产光刻机与国外差距太大，根本无法在高端市场上参与竞争，。根据预估，近年来我国每年集成电路产品进口金额与每年原油进口金额大致相当，每年已经超过2000亿美元。

二、中国光刻机发展历程

中国最好的光刻机厂商上海微电子（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的设备相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。所以由此可知，中国至少落后于国外14年，这对于2年更新一次的光刻机行业，中国落后了7代。

2008年国家将EUV光刻技术列作为重要课题，长春光机承担起了“极紫外光刻关键技术研究”项目研究工作。此后《中国制造2025》将EUVL列为了集成电路制造领域的发展重点，并计划在2030年实现EUV光刻机的国产化。

8年后的2016年，项目提前完成测试，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术，初步建立了适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的加工、检测、镀膜和系统集成平台。这才进行中国光刻机时代的奠基。而asml光刻机已经诞生了30年，市场份额高达80%。

极紫外光刻被公认为是最具潜力的下一代光刻技术，面对的是7nm和5nm节点，代表了当前应用光学发展最高水平。

到此，以上就是小编对于合肥原装气动执行器标准的问题就介绍到这了，希望介绍关于合肥原装气动执行器标准的2点解答对大家有用。